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    氮化镓基高亮度LED核心专利分析(第2页)
    来源:LED环球在线 作者: 浏览:1874人次 发布:2010-07-30
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      目前,世界范围内在GaN基高亮度LED及半导体全固态照明光源的研发方面居于领先水平的公司主要有:美国的Lumileds、HP/Agilent和Cree,日本的Nichia、ToyodaGosei、Sony、Toshiba和其他综合性大公司(如NEC、Matsushita、Mitsubishi及Sumitomo等),德国的Osram等等。这些跨国公司多数有原创性的专利,引领技术发展的潮流,占有绝大多数的市场份额。

      在GaN基光电子器件中,大量的专利内容集中于发光区的结构设计,主要包括:普通双异质结(EP0599224);一般的方形量子阱(包括单量子阱和多量子阱、EP1189289和JP11054847);梯形量子阱(US6309459);三角量子阱以及非对称量子阱(GB2361354);采用非掺杂的载流子限制层(US2002093020);活性层与p型层之间加入缓冲层(US2001011731);采用多量子垒(MQB)做载流子限制层(US2001030317)等等。这些专利设计的目的均是为了提高活性区的发光效率。

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      器件制作:以8项典型技术为代表

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      基于物理机制和工艺技术的讨论,我们对有关GaN基发光产品的全套器件制作专利做了分析,现列举8项典型代表技术:

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      一是美国专利US5631190(Method for producing high efficiency light-emittingdiodesandresultingdiodestructures),即制作高效发光二极管和实现二极管结构的方法。其专利拥有者为CreeResearch.

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      二是美国专利US5912477(Highefficiencylightemittingdiodes),即高效率发光二极管,其专利拥有者为CreeResearch.

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      三是专利WO0141223(ScalableLEDwithimprovedcurrentspread-ing),即具有改进的电流分布层的发光二极管。其专利拥有者为Cree Re-search.

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      四是美国专利US6526082(P-con-tactforGaN-based semiconductorsutilizingareverse-biasedtunneljunction),即用反偏的隧道二极管制作GaN基半导体的P型接触层。其专利

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      拥有者为Lumileds.

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      五是美国专利US2002017652(Semiconductorchipforoptoelectronics),即管芯的制作方法。其专利拥有者为Osram.

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      六是US6538302(Semiconductorchipandmethodfortheproductionthereof),即半导体芯片及其制作方法。

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      其专利拥有者为Osram.

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      七是专利DE10064448.其专利拥有者为Osram.

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      八是美国专利US6078064(Indiumgalliumnitridelightemittingdiode),即InGaN发光二极管。其专利拥有者为EPISTAR.

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    氮化镓基 高亮度 LED 核心专利
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    最新论文回贴及评论
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    中照网网友 在2021-1-11 9:45:39发表 
    可否提供诸玉华的联系方式?
    中照网网友 在2018-6-6 17:54:50发表 
    shiyong
    中照网网友 在2016-12-29 17:53:27发表 
    伟然科技照明
    中照网网友 在2016-6-2 11:44:56发表 
    这个确实是事实,可是国家一边为了照顾经济发展,一边又没有投入资金对企业进行辅导,确实让企业也茫然。是无奈还是放任,这需…
    中照网网友 在2016-5-19 11:36:38发表 
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